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化学气相沉积法CVD生长SiO2基底单层连续石墨烯膜厚0.35nm可定制
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化学气相沉积法CVD生长SiO2基底单层连续石墨烯膜厚0.35nm可定制

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玻璃基底30*30mm 登录可见 登录可见 0 715130293476-1
SiO2/Si基底10*20mm 登录可见 登录可见 0 715130293476-2
SiO2/Si基底20*20mm 登录可见 登录可见 0 715130293476-3
SiO2/Si基底10*10mm 登录可见 登录可见 0 715130293476-4
玻璃基底10*10mm 登录可见 登录可见 0 715130293476-5
玻璃基底10*20mm 登录可见 登录可见 0 715130293476-6
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