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化学气相沉积法CVD生长SiO2基底单层连续石墨烯膜厚0.35nm可定制
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化学气相沉积法CVD生长SiO2基底单层连续石墨烯膜厚0.35nm可定制

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SiO2/Si基底1cm*2cm 登录可见 登录可见 0 578603973217-1
玻璃基底3cm*3cm 登录可见 登录可见 0 578603973217-2
SiO2/Si基底2cm*2cm 登录可见 登录可见 0 578603973217-3
SiO2/Si基底3cm*3cm 登录可见 登录可见 0 578603973217-4
SiO2/Si基底1cm*1cm 登录可见 登录可见 0 578603973217-5
玻璃基底2cm*2cm 登录可见 登录可见 0 578603973217-6
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玻璃基底1cm*2cm 登录可见 登录可见 0 578603973217-8

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